专商所副所长参加第二十届“中国光谷”知识产权国际论坛

本报讯 第二十届“中国光谷”知识产权国际论坛日前在武汉举办。本届论坛主题为“聚智赋能，知创未来”，包括开幕式、高峰论坛和主题论坛，吸引了全国知识产权领域2000余人参会。

贸促会专商所副所长原绍辉受邀发表了“企业‘走出去’的知识产权风险管理”主题演讲。他介绍了侵犯型和丧失型知识产权风险的发生场景、典型案例和常见误区，并对企业在产品研发和上市阶段的知识产权风险管控提出了建议。

“中国光谷”知识产权国际论坛由国家知识产权局和武汉市人民政府主办，湖北省和武汉市知识产权局等承办，是国内主办届数最多、延续时间最长、具有广泛影响的知识产权论坛。

（来源：中国贸促会专利商标事务所）