新修订《集成电路布图设计保护条例》10月15日起施行

　　本报讯 近日，修订后的《集成电路布图设计保护条例》（以下称“新《条例》”）正式公布，将自2026年10月15日起施行。这是《条例》施行20多年来的首次系统性修订，内容主要涉及完善申请登记程序、加强专有权保护、促进布图设计运用等多个方面。
　　党中央和国务院高度重视新兴领域知识产权保护工作。现行《条例》于2001年公布施行，在保护集成电路布图设计专有权、鼓励集成电路技术创新等方面发挥了积极作用。随着集成电路技术和产业快速发展，光子、量子等颠覆性技术不断涌现，修订《条例》势在必行。新《条例》站在技术发展前沿，实现对新型集成电路布图设计的全方位保护。
　　在完善申请、审查程序方面，新《条例》规定，布图设计登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假。同时，增加独创性声明要求，并规定提交的复制件或者图样应当清楚地显示该布图设计具有独创性的部分。此外，还明确申请登记的布图设计明显不符合新《条例》规定的，应当驳回；布图设计获准登记后，任何人发现该登记不符合新《条例》规定的，可以请求撤销；登记被撤销的，该布图设计专有权视为自始即不存在。
　　在加强专有权保护方面，新《条例》规定，受保护的布图设计以登记的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性。同时，规定侵权赔偿额按照权利人受到的实际损失或者侵权人获得的利益确定；难以确定的，参照许可使用费的倍数合理确定；情节严重的，适用惩罚性赔偿。
　　在促进布图设计运用方面，新《条例》规定，国务院知识产权行政部门应当会同有关部门采取措施，加强公共服务，促进布图设计运用；法人或者非法人组织主持创作布图设计，应当依照促进科技成果转化法等，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬；完善转让、许可、出质要求；共有人对权利的行使有约定的从其约定，许可他人使用该布图设计收取的使用费应当在共有人之间分配。
　　集成电路设计环节处于产业链上游，决定着芯片的性能、功耗与竞争力。专家指出，《条例》修订是护航我国集成电路技术创新发展的重要举措，将进一步筑牢前沿集成电路知识产权保护屏障，构建起适配我国集成电路技术创新节奏的制度体系。

□马润錕