奥首半导体功能电子材料 荣登国家“十四五”成就展

　　本报讯 （记者 邓亮 报道组 王轶泽 周毅辉 通讯员 张娇坤 姜小军） 近日，由中国国家博物馆、工业和信息化部新闻宣传中心联合主办的“筑基强国路——中国制造‘十四五’成就展”在中国国家博物馆开幕。浙江奥首材料科技有限公司（以下简称“奥首材料”）自主研制的四款产品——光刻胶清洗剂ISP800、ISP1100、低温固化光敏聚酰亚胺光刻胶和等离子切割保护材料，作为“高端制造”与“产业基础”板块的标志性成果精彩亮相，在国家级舞台上展现硬核实力。

　　作为2025年度国家博物馆“国家展览”项目之一，本次展览通过高端制造、产业基础、智能制造、绿色制造、融合发展、美好生活六部分、300余件（套）展品，全景呈现“十四五”期间中国制造蓬勃发展的历程，直观展现中国制造的硬核实力与民生温度。

　　这四款产品主要面向芯片、先进封装等国家当前重点发展的前沿领域。产品的研发应用，有助于提升国内芯片制造的工艺水平、产品良率和长期可靠性，同时降低对羟胺等特定进口原材料的依赖，进一步增强我国半导体产业链自主可控能力。奥首材料通过攻克配方设计、工艺兼容、性能平衡等一系列关键难题，在高端半导体材料领域建立起差异化竞争优势。

　　此次展览面向全国各省（区、市）广泛征集优质成果，构建起涵盖链主企业、制造业单项冠军企业、专精特新“小巨人”企业及消费名品企业的多元展品矩阵。展览重点纳入拥有全国首台（套）产品、突破关键核心技术的标杆成果，既兼顾产业梯度与区域特色，又全面覆盖我国制造业发展核心赛道，全方位彰显中国制造的全域布局优势与澎湃发展动能。

　　“此次入选展览，是对奥首材料坚持自主创新、全力突破‘卡脖子’技术路径的高度认可。”奥首材料相关负责人表示。