记者 邓亮 报道组 周毅辉 王轶泽
4月16日上午10点半，浙江奥首材料科技有限公司（以下简称“奥首材料”）行政楼展厅里，挤满了来自中国科学技术协会的参观人员，大家边看边欣喜地议论着：“这趟不虚此行，这个博士创新站确实不错！”
“我们企业名称就蕴含了‘第一’的意思，做事情就要做到最好。”奥首材料董事长侯军向参观人员介绍企业发展历程时说。展示墙上显示着奥首的诸多第一：14nm及以上芯片制程光刻胶清洗剂国内第一，芯片大马士革铜和先进封装电镀添加剂国内第一（唯一），HBM芯片封装界面保护材料国内第一（唯一）……
2020年洽谈项目，当年即开工建设，2022年衢州总部基地落成投产……奥首材料落户衢州的每一步都踩准了节奏，其发展也是一路势如破竹。“厂区快速建设，企业迅速成长，衢州各级部门都给了我们很大的帮助。”侯军说。
2024年11月，企业自主研发的“高湿润性缓冲氧化物蚀刻液”获国家发明专利，这项技术填补了国内空白，打破国外垄断，实现芯片蚀刻液全制程国产化布局。同年12月，企业先进制程芯片光刻胶项目入选浙江省“尖兵”“领雁”研发攻关计划。
“我们坚持致力于破解芯片制造精细化工材料的难题，进行高端功能化学品的自主创新与国产化替代研究。”侯军向参观者介绍，在国内相关研发处于空白的情况下，企业开发出具有自主知识产权的芯片光刻胶剥离液、去光阻剂、蚀刻后清洗液等80余种产品，并全部进入产业化阶段。 下转第四版